Aufdampfanlage

Aufdampfanlage mit thermischer Verdampfungsquelle und Elektronenstrahlverdampfungsquelle für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen

Eine Aufdampfanlage dient dazu, dünne Schichten im Nanometerbereich zu erzeugen. Herstellung und Charakterisierung dieser Schichten für Bauelemente wie Oberflächenwellenfilter, Sensoren, Dioden oder Datenspeicherzellen ist Inhalt diverser Praktika und Vorlesungen vor allem im Bachelorprogramm Technische Physik und im Masterprogramm Mikro- und Nanotechnik. Diese Anlage, mit der mittels thermischer Verdampfung und Elektronenstrahlverdampfung beschichtet werden kann, dient dazu den Studierenden ein weiteres, modernes Beschichtungsverfahren zugänglich zu machen. Bislang konnten wir im Labor wenige Metalle mit niedrigem Schmelzpunkt als Dünnschichten abscheiden. Damit sind wir bei der Herstellung von Bauelementen auf einfache Strukturen limitiert, die mit Beispielen aus der aktuellen Praxis leider wenige Anknüpfungspunkte haben. Mit einer Anlage, die nicht nur das thermische Verdampfen sondern auch das Elektronenstrahlverdampfen erlaubt, können nun nicht nur weitere Metalle verarbeitet werden, sondern auch Isolator- und Halbleiterschichten erzeugt werden. Mit der Erweiterung des Verfahrens und Materialpools ist es uns zukünftig möglich, komplexere Bauelemente zu erzeugen und damit praxisnäher auszubilden.