Oberflächenveredelung und Dünnschichttechnik

LOD
(Foto: David Graupner)

Kurzbeschreibung

Thermisches Verdampfen im Labor für Oberflächenveredeleung und Dünnschichttechnik
(Foto: Armin Hadzimujic)

  • Produktions-PE-CVD-Anlage mit Spektrometer f. opt. Emissionsspektroskopie, energiedispersivem Massenspektrometer
  • High-End-CVD-Anlage mit Diff.-Pumpe und neuentwickelter Kühlfalle
  • E-Beam-Aufdampfanlage
  • RF-Dioden-Sputteranlage
  • Parallelplatten-Reaktor für RIE

Laborleitung

Prof. Dr. Katja Beha Raum: G 3.49

T +49 89 1265-1617
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Laborbetreuung

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