Dynamische, direktschreibende Holografie und flexible Ätztechnologie für skalierbare mikrostrukturierte Optiken auf nichtebenen Oberflächen

Das Projekt ‚DynaFlex‘ adressiert eine neue hochauflösende lithografische Herstellungskette für die flexible Realisierung optischer Mikro- und Nanostrukturen auf nichtebenen Substraten. Die Arbeitsziele umfassen zwei Hauptschwerpunkte: 1) die Entwicklung einer neuen lithografischen Belichtungstechnologie auf Basis dynamischer holografischer Masken und 2) die Entwicklung der Übertragungstechnologie zur Erschließung neuer optischer Materialien und Substratgeometrien mittels reaktiver Ionenätzverfahren. Das neue Belichtungsverfahren basiert auf der Bereitstellung der Belichtungsintensität über statische, hochauflösende Beugungsmasken und eine dynamische Strahlformung mittels Spatial-Light-Modulator (SLM). Im Projekt soll für diesen neuen Ansatz ein optomechanisches Konzept entwickelt, als Labordemonstrator aufgebaut und an verschiedenen Beispielstrukturen umfassend getestet und optimiert werden. Auf dieser Basis werden angepasste Belichtungsmodi z.B. für die holografische Realisierung von Blaze-Strukturen auf nichttransparenten und nichtebenen Substraten entwickelt. Für die Übertragung der so erzeugten Resiststrukturen werden Trockenätzprozesse (RIE und RIBE) erarbeitet und erforscht. U.a. werden die Materialien Titanoxid, Siliziumcarbid und Kalziumfluorid und hochbrechende Gläser adressiert. Umfangreiche Anpassungen und Optimierungen von Ätzrezepten auf die neuen Materialien müssen durchgeführt werden. Ein zentraler Schwerpunkt betrifft die Erarbeitung eines neuen Verfahrens für die Strukturübertragung auf nichtebene Substrate.